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低温等离子表面处理设备由真空腔体及高频等离子电源、抽真空系统、充气系统、自动控制系统等部分组成。工作基本原理是通过高频发生器将气体进行电离，形成高均匀性辉光放电的等离子体。这些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用，得到了表面亲水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等各种表面改性。

●设备外形尺寸：450mm*400mm*260mm (立式结构)

●真空仓体尺寸：φ151×285(L)mm   (5L)

●仓体结构：不锈钢腔体，内置容性耦合电极，无污染，内置石英托盘。

●等离子发生器：频率40KHZ, 功率0-300W调节，全电路保护，连续长时间 工作(风冷)。

●气体保护功能：具有惰性气体保护功能，可设置进气量及保护时间。

●工艺气体：舱门前进气结构，工艺气体分布均匀。

●标配两路工艺气体，流量设定范围： 气体1(0～60ml/min)   气体2(0~ 160ml/min)

●控制系统：PLC+触摸屏全自动控制，美国产真空压力传感系统，具有故障 报警、工艺记忆参数等多种功能。在线设定、修改、监控真空压力、处理时 间、等离子功率等工艺参数。

●控制模式：自动控制和手动控制两种模式。在自动模式下设置各项工艺参 数，即可一键启动，连续重复运行。