该款光刻机是专门为微流控用户设计和开发的新型设备。
其优点在于:
※ 一键完成多基片微纳结构设计图案的顺序加工
※不同分辨率激光加工模块快速切换
※ 256级灰度3D 加工
※0.6-5μm 直写分辨率
型号 | URE-2000/35L | URE-2000/30L | URE-2000/34L |
曝光面积 | 4英寸 | 110mm×110mm | 110mm×110mm |
曝光波长 | 进口LED 365nm |
分辨率 | 0.8μm-1μm | 1um | 0.8μm-1μm |
对准精度 | ±1μm | ±0.8μm | ±0.8μm |
样品尺寸 | 最大4寸 |
样品厚度 | 0.1-2mm | 0.1-3mm | 0.1-6mm(定制最大50mm) |
曝光模式 | 数字设定对准间隙和曝光间隙 | 数字设定对准间隙和曝光间隙 | 数字设定对准间隙和曝光间隙 |
特殊功能 | 具备压印模块接口, 也具备接近模块接口 | 对准位和曝光位双工位工作, 双工位伺服电机自动切换 | 可执行曝光模式:真空接触、 硬接触、压力接触、接近式 |
最大胶厚 | 400μm(SU-8胶) |
光源平行度 | 2.5° | 2.5° | 2° |
曝光能量密度 | >40mW/cm² |
光照不均匀性 | ≤2.5%(100mm范围) | ≤2.5%(100mm范围) | ≤2%(100mm范围) |